Новини

SiC Diffusion Furnace Tube се превърна в критичен компонент в съвременното производство на полупроводници поради изключителната си термична стабилност, химическа устойчивост и дълъг експлоатационен живот. Тази статия изследва как VeTek доставя усъвършенствани SiC решения, които подобряват производителността на дифузионната пещ, подобряват качеството на пластините и намаляват общите производствени разходи. Ще научите неговата структура, предимства, приложения, технически спецификации и защо все повече заменя традиционните кварцови и алуминиеви тръби.

Тъй като производството на полупроводници, технологията за растеж на кристали и усъвършенстваната обработка на материали продължават да се развиват, търсенето на ултра-чисти и термично стабилни компоненти се е увеличило значително. Сред тези критични компоненти графитният тигел със стъклено въглеродно покритие се очертава като едно от най-надеждните решения за среда с висока температура и висока чистота.

Тъй като производството на полупроводници продължава да се развива към по-висока прецизност, чистота и термична стабилност, усъвършенстваните покривни материали се превърнаха в критични компоненти в технологичното оборудване. Сред тях пръстенът с покритие от танталов карбид се откроява с изключителната си устойчивост на високи температури, корозия, плазмена ерозия и замърсяване с частици.