Силициев нитрид

VeTek Semiconductor се фокусира върху производството на силициев нитрид и има екип за изследвания и разработки, съставен от старши експерти и най-добри технически таланти. Керамиката от силициев нитрид има предимствата на твърдост, устойчивост на топлина, устойчивост на износване и устойчивост на корозия на общите керамични материали и има предимствата на добра устойчивост на термичен шок, устойчивост на пълзене при висока температура, добро самосмазване и добра химическа стабилност и е широко разпространена използвани в новата енергетика, химическата промишленост, космическата промишленост и полупроводниците.

Материалите от силициев нитрид на VeTek Semiconductor имат следните забележителни предимства:

1. Отлична химическа стабилност

Керамиката от силициев нитрид има отлична химическа стабилност и може да издържи на различни силни киселини, основи и корозивни газове. В процеса на производство на полупроводници често трябва да се справят с корозивни химикали, керамиката от силициев нитрид може да осигури дългосрочна гаранция за стабилна работа.

2. Отлични механични свойства

Керамиката от силициев нитрид има висока твърдост, отлична якост на натиск и устойчивост на износване, способна да издържи на механични натоварвания и повърхностно износване, не е лесна за деформация или разкъсване. Това механично свойство го прави много подходящ като материал за структурни и технологични части в полупроводниково оборудване.

3. Устойчивост на висока температура

Керамиката от силициев нитрид може да поддържа стабилност при високотемпературни среди, не е лесна за омекотяване или стопяване и може да издържи на високотемпературна обработка и обработка в процеса на производство на полупроводници. Това му позволява да се използва в производството на ключови компоненти на оборудване за високотемпературни процеси, като хващачи, компоненти на реакционна камера и т.н.

4. Отлични изолационни свойства

Изолационните свойства са критични при производството на полупроводникови устройства. Керамиката от силициев нитрид има добри изолационни свойства, които могат ефективно да изолират и защитят компонентите на веригата от изтичане на ток или електромагнитни смущения, което спомага за подобряване на стабилността и надеждността на устройството.

5. Топлопроводимост и топлопроводимост

Керамиката от силициев нитрид има висока топлопроводимост, може ефективно да провежда и разсейва топлината, генерирана от устройството, като спомага за поддържане на температурната стабилност на устройството в работния процес. Това е от решаващо значение за високопроизводителната работа на полупроводниковите устройства.

Приложенията на материалите от силициев нитрид на VeTek Semiconductor в слънчевата и полупроводниковата индустрия включват основно:

1. Електростатични патронници и компоненти на камерата за ецване

Керамиката от силициев нитрид често се използва като материали за електростатични патронници и компоненти на камери за ецване в производството на полупроводници поради тяхната отлична химическа стабилност и устойчивост на висока температура. Електростатичните патронници се използват за фиксиране и стабилизиране на пластини или субстрати, докато компонентите на камерата за ецване се използват, за да издържат на корозивни газове и среда с висока температура.

2. газоразпределителни плочи и рефлектори

Керамиката от силициев нитрид също се използва в производството на полупроводниково оборудване в газоразпределителните плочи и рефлектори. Газоразпределителните плочи се използват за равномерно разпределяне на реактивни или защитни газове в реакционната камера, докато рефлекторите се използват за оптимизиране на разпределението и отразяването на светлината в реакционната камера за подобряване на ефективността и еднородността на реакцията.

3. Държачи и термични компоненти

Керамиката от силициев нитрид често се използва като държачи и компоненти за управление на топлината в оборудването за производство на полупроводници. Тези компоненти трябва да имат добра механична якост, устойчивост на износване и топлопроводимост, за да осигурят стабилна работа на оборудването и точност на обработка на устройството.

4. Тампони за химическо механично полиране (CMP).

Керамиката от силициев нитрид се използва широко като материал за подложки в процеса на химическо механично полиране (CMP). Има отлична плоскост и устойчивост на износване и може да осигури стабилна опора по време на процеса на полиране, за да гарантира плоскостта и прецизността на повърхността на полупроводниковата пластина.