Силиконов нитрид

1. Отлична химическа стабилност

Силиконовата нитридна керамика има отлична химическа стабилност и може да издържи на различни силни киселини, алкали и корозивни газове. В процеса на производство на полупроводници често трябва да се справят с корозивни химикали, силициевата нитридна керамика може да осигури дългосрочна стабилна гаранция за ефективност.

2. Отлични механични свойства

Силиконовата нитридна керамика има висока твърдост, отлична якост на натиск и устойчивост на износване, способна да издържа на механично напрежение и повърхностно износване, не лесно за деформация или разкъсване. Това механично свойство го прави много подходящ като материал за структурни и обработващи части в полупроводниково оборудване.

3. Стабилност на високотемпературата

Силиконовата нитридна керамика може да поддържа стабилност във високотемпературна среда, не лесна за омекотяване или стопилка и може да издържи на високотемпературна обработка и обработка в процеса на производство на полупроводници. Това позволява да се използва при производството на ключови компоненти на ключовите компоненти на оборудването с високо температурно оборудване, като например хватки, компоненти на реакционната камера и т.н.

4. Отлични изолационни свойства

Изолационните свойства са от решаващо значение при производството на полупроводникови устройства. Силиконовата нитридна керамика има добри изолационни свойства, които могат ефективно да изолират и защитят компонентите на веригата от изтичане на ток или електромагнитни смущения, като спомагат за подобряване на стабилността и надеждността на устройството.

5. Топлинна проводимост и топлинна проводимост

Силиконовата нитридна керамика има висока топлинна проводимост, може ефективно да провежда и разсейва топлината, генерирана от устройството, като спомага за поддържането на температурната стабилност на устройството в работния процес. Това е от решаващо значение за високоефективната операция на полупроводниковите устройства.

1. Електростатични компоненти на камерата на камерата

Силиконовата нитридна керамика често се използва като материали за електростатични патронници и компоненти за офорт на камерата при производството на полупроводници поради отличната им химическа стабилност и висока температурна устойчивост. Електростатичните патрони се използват за фиксиране и стабилизиране на вафли или субстрати, докато компонентите на камерата за офорт се използват за издържане на корозивни газове и високотемпературна среда.

2. Плани за разпределение на газ и отражатели

Силиконовата нитридна керамика се използва и при производството на полупроводниково оборудване в плочите и отражателите на газови раздели. Платните за разпределение на газа се използват за равномерно разпределение на реактивни или защитни газове в реакционната камера, докато отражателите се използват за оптимизиране на разпределението и отражението на светлината в реакционната камера, за да се подобри ефективността и равномерността на реакцията.

3. Притежатели и топлинни компоненти

Силиконовата нитридна керамика често се използва като притежатели и компоненти за управление на термично управление в оборудването за производство на полупроводници. Тези компоненти трябва да имат добра механична якост, устойчивост на износване и термична проводимост, за да се осигури стабилна работа на оборудването и точност на обработка на устройството.

4. Химически механично полиране (CMP) подложки

Силиконовата нитридна керамика се използва широко като материал за подложка в процеса на химическо механично полиране (CMP). Той има отлична плоскост и устойчивост на износване и може да осигури стабилна подкрепа по време на процеса на полиране, за да гарантира плоскостта и прецизността на повърхността на полупроводниковите вафли.