Поддръжка

VeTek Semiconductor доставя висококачествени монокристални пластини от алуминиев нитрид (AlN) и субстрати за следващо поколение полупроводникови устройства с ултраширока лента. С ултраширока ширина на лентата от приблизително 6,2 eV, изключителна топлопроводимост, изключителна електрическа изолация и отлично съвпадение на решетката и термичното разширение с GaN, пластините AlN са идеални за високомощни RF устройства, високоволтова силова електроника и оптоелектроника с дълбоки ултравиолетови лъчи (DUV).

VETEK Professional Cleaning Service for CVD SiC Coated Graphite Parts е специализирана техническа услуга, предназначена за Aixtron / Veeco MOCVD оборудване и графитни компоненти, използвани в GaN / AlN / AlGaN епитаксиални процеси. Нашият собствен процес на почистване напълно елиминира ефекта на повърхностната памет, възстановява стабилния газов поток в реактора и стриктно защитава 100 µm CVD SiC покритие с абсолютна нулева загуба на дебелина и нулев остатък от метал.

Тъй като търсенето на MEMS преобразуватели с висока чувствителност и ниска мощност нараства с разширяването на 5G комуникациите, прецизните медицински устройства и интелигентните носими устройства, нашите пластини PZT върху Si/SOI осигуряват критично решение за материали. Използвайки усъвършенствани процеси на отлагане на тънък слой като сол-гел или разпрашване, ние постигаме изключителна консистенция и превъзходни пиезоелектрични характеристики върху силициеви субстрати. Тези пластини служат като основно ядро ​​за електромеханично преобразуване на енергия.

Растежът на кристали от силициев карбид е основен процес в производството на високопроизводителни полупроводникови устройства. Стабилността, прецизността и съвместимостта на оборудването за отглеждане на кристали директно определят качеството и добива на слитъци от силициев карбид. Въз основа на характеристиките на технологията Physical Vapor Transport (PVT), Veteksemi разработи съпротивителна нагревателна пещ за растеж на кристали от силициев карбид, позволяваща стабилен растеж на 6-инчови, 8-инчови и 12-инчови кристали от силициев карбид с пълна съвместимост с проводими, полуизолиращи и системи от N-тип материали. Чрез прецизен контрол на температурата, налягането и мощността, той ефективно намалява кристалните дефекти като EPD (Etch Pit Density) и BPD (Basal Plane Dislocation), като същевременно се отличава с ниска консумация на енергия и компактен дизайн, за да отговори на високите стандарти на промишленото широкомащабно производство.

Полиращата суспензия CMP (Chemical Mechanical Polishing Surry) е високоефективен материал, използван в производството на полупроводници и прецизната обработка на материали. Неговата основна функция е да постигне фина плоскост и полиране на повърхността на материала под синергичния ефект на химическа корозия и механично смилане, за да отговори на изискванията за плоскост и качество на повърхността на нано ниво. Очакваме вашата допълнителна консултация.

Като водещи китайски производители и доставчици на вафли SIC, Vetek Semiconductor CVD SIC Coating Dummy Wafer е специализиран инструмент в производството на полупроводници, използван главно за целите на процеса на тестване на силициеви вафли и тестване на вафли. Вашите допълнителни запитвания са добре дошли.