Новини

В индустрията за производство на полупроводници, тъй като размерът на устройството продължава да се свива, технологията за отлагане на тънки филмови материали представлява безпрецедентни предизвикателства. Отлагането на атомен слой (ALD), като технология за отлагане на тънък филм, която може да постигне прецизен контрол на атомно ниво, се превърна в незаменима част от производството на полупроводници. Тази статия има за цел да въведе потока на процеса и принципите на ALD, за да помогне за разбирането на неговата важна роля в модерното производство на чипове.

Идеално е да се изграждат интегрирани вериги или полупроводникови устройства на перфектен кристален основен слой. Процесът на епитакси (EPI) при производството на полупроводници има за цел да депозира фин еднокристален слой, обикновено около 0,5 до 20 микрона, върху еднокристален субстрат. Процесът на епитаксия е важна стъпка в производството на полупроводникови устройства, особено при производството на силициеви вафли.

Основната разлика между отлагането на епитаксия и атомния слой (ALD) се крие в техните механизми за растеж на филма и условията на експлоатация. Епитаксията се отнася до процеса на отглеждане на кристален тънък филм върху кристален субстрат със специфична ориентационна връзка, поддържайки същата или подобна кристална структура. За разлика от тях, ALD е техника на отлагане, която включва излагане на субстрат на различни химически прекурсори в последователност, за да образува тънък филм един атомен слой наведнъж.

CVD TAC покритието е процес за формиране на плътно и трайно покритие върху субстрат (графит). Този метод включва отлагане на TaC върху повърхността на субстрата при високи температури, което води до покритие от танталов карбид (TaC) с отлична термична стабилност и химическа устойчивост.

С напредването на процеса на 8-инчов силициев карбид (SiC) производителите ускоряват преминаването от 6-инчови към 8-инчови. Наскоро ON Semiconductor и Resonac обявиха актуализации за производството на 8-инчов SiC.

Тази статия представя най-новите разработки в новосъздадения PE1O8 CVD реактор на Hot-Wall на италианската компания LPE и способността му да извършва равномерна епитаксия от 4H-SIC на 200 мм SIC.