Кварцова дифузионна тръба с висока чистота

Кварцовата дифузионна тръба с висока чистота на VeTek Semiconductor има характеристиките на висока чистота, висока устойчивост на топлина, висока устойчивост на корозия и нисък коефициент на разширение. Тези характеристики позволяват на кварцовата дифузионна тръба с висока чистота да издържа на околната среда на процеса на окислително отгряване на полупроводникови пластини без деформация или повреда.

Кварцовата дифузионна тръба с висока чистота на VeTek Semiconductor има чистота над 99,998%, което гарантира, че няма да има замърсяване на пластината по време на процеса на приготвяне на пластината.

Приложение на кварцова дифузионна тръба в процеса на дифузия на окисляване на полупроводници

Отличните топлинни характеристики на нашата кварцова дифузионна тръба с висока чистота са много важни в процеса на окисление. Кварцовата дифузионна тръба с висока чистота може да издържи на температури до 1250°C по време на термично окисление и отгряване, осигурявайки гладка обработка на пластини. В допълнение, изолационните свойства и високата термична устойчивост на кварцовата дифузионна тръба с висока чистота в крайна сметка гарантират последователността на обработката на цената на вафлите.

Кварцовата дифузионна тръба с висока чистота на VeTek Semiconductor е идеална за обработка на пластини

В допълнение към окисляването, отгряването е друг важен процес в производството на полупроводникови пластини. Чрез нагряване на пластината до определена температура и охлаждане с контролирана скорост за определен период от време, целта е да се подобри микроструктурата и работата на материала. Ключът към този процес е прецизният контрол на температурата – тя трябва да е достатъчно висока, за да позволи на атомите да се пренаредят, но не прекалено висока, за да се избегнат необратими щети. Времето на задържане позволява на атомите в материала да се движат и пренареждат, което помага да се елиминират дефектите на решетката, да се увеличи размерът на зърната и т.н. Етапът на охлаждане на процеса на отгряване също е много критичен и скоростта на охлаждане може значително да повлияе на крайната кристална структура и изпълнение.

VeTek Semiconductor High Purity Quartz Diffusion Tube осигурява необходимата термична стабилност за процеса на отгряване, позволявайки на пластината да се отгрява равномерно. В същото време отличната устойчивост на топлинен удар на кварцовата дифузионна тръба с висока чистота гарантира нейната стабилност при бързите цикли на нагряване и охлаждане по време на процеса на отгряване на пластини, така че нейният живот и надеждност при процеса на отгряване са гарантирани.

В допълнение към горните предимства, VeTek Semiconductor High Purity Quartz Diffusion Tube също има висока UV прозрачност. Може да се използва за наблюдение и проверка на процеса на обработка на пластини чрез UV светлина, като по този начин се подобрява надеждността на крайното полупроводниково устройство.

Действителните изисквания на различните полупроводникови процеси са различни. За да отговорим на тези разнообразни нужди, ние винаги се ангажираме да предоставяме на клиентите изключително персонализирани продукти с кварцова дифузионна тръба с висока чистота, за да отговорим на изискванията на сценария за използване на крайния потребител. Нашите услуги за персонализиране на клиенти включват различни структури на самата кварцова дифузионна тръба с висока чистота, различни фланци и други конфигурации. Независимо дали става дума за научноизследователска и развойна дейност в малък мащаб или за широкомащабно масово производство, ние сме компетентни. Очакваме вашето запитване и установяване на дългосрочно партньорство с вас.

Цех за производство на полупроводници VeTek：