Новини от индустрията

Пространствено ALD, пространствено изолирано отлагане на атомен слой. Вафлата се движи между различни позиции и е изложена на различни прекурсори на всяка позиция. Фигурата по-долу е сравнение между традиционния ALD и пространствено изолирания ALD.

Наскоро Германският изследователски институт Fraunhofer IISB направи пробив в изследванията и разработването на технология за покритие на карбид Tantalum и разработи разтвор за спрей покритие, който е по -гъвкав и екологичен от разтвора за отлагане на ССЗ и е комерсиализиран.

В епохата на бързо технологично развитие, 3D принтирането, като важен представител на напредналите производствени технологии, постепенно променя лицето на традиционното производство. С непрекъснатото развитие на технологиите и намаляването на разходите, технологията за 3D печат показа широки перспективи за приложение в много области като космическата промишленост, производството на автомобили, медицинското оборудване и архитектурния дизайн и насърчи иновациите и развитието на тези индустрии.

Само с единичните кристални материали не могат да отговорят на нуждите от нарастващото производство на различни полупроводникови устройства. В края на 1959 г. е разработен тънък слой технология за растеж на единични кристални материали - епитаксиален растеж.