Носител за кварцови вафли с висока чистота

1. Основни характеристики и предимства

• Дехидроксилиран стопен кварц с ултрависока чистота (SiO₂ ≥ 99,999%) с метални примеси, контролирани на нива на ppb - минимизиране на замърсяването на пластини

• Дълготрайна работна температура до 1100 °C; краткотрайна пикова устойчивост до 1200 °C

• Отлична устойчивост на термичен удар и стабилност на размерите при чести температурни цикли

• Силна химическа инертност срещу окисляващи технологични газове и обикновени химикали за мокър процес (HF, H₂O₂, киселини/алкали)

• Висока плоскост и прецизно шлайфана повърхност със заоблени ръбове за равномерна поддръжка на вафли и намалено увреждане на ръбовете

• Ниско вакуумно отделяне на газове и ниска повърхностна адсорбция—подходящи за прецизни вакуумни процеси

• Напълно адаптивни структури: твърди носители, перфорирани/вентилирани дизайни, стъпаловидни функции за локализиране, отвори за позициониране, многоточкови опори и удебелени дизайни против деформация за 2–12 инчови пластини

2. Типични приложения

Тези носители се използват навсякъде, където вафлите се нуждаят от чиста, стабилна по размери опора при повишена температура или агресивна химия:

• Зареждане на дифузионна и отгряваща пещ

• Поддръжка на процеса на растеж на филми PECVD и LPCVD

• Вакуумна камера и оборудване за високотемпературен процес

• Носачи на станции за сушене след ецване и мокро почистване

• Термична обработка на захранващо устройство SiC и GaN

• Оптоелектронни боравене с субстрати и лабораторни термични инструменти

3. Основни технически параметри

• Основен материал: дехидроксилиран стопен кварц от полупроводников клас, SiO₂ ≥ 99,999%

• Съвместими размери на пластини: 2, 4, 6, 8 и 12 инча (Si, SiC, GaN, сапфир)

• Препоръчителен непрекъснат температурен диапазон: −20 °C до 1100 °C; краткотраен пик до приблизително 1200 °C

• Производствен път: формоване на една част, прецизно повърхностно шлайфане, заобляне на ръбове, отгряване за освобождаване на напрежението и ултра-чисто окончателно почистване

• Налични конфигурации: плътни, вентилирани/перфорирани, стъпаловидни, с дупки и напълно персонализирани геометрии

• Фокус върху производителността: висока чистота, термична стабилност, устойчивост на корозия, плоскост на повърхността, ниско отделяне на газове и дългосрочно запазване на размерите

• Обхват на персонализиране: външни размери, дебелина, опорна геометрия, оформление на отвора и специални функции, базирани на чертежи на клиента

4. Защо да изберете VeTek кварцови носители с висока чистота?

Като професионален производител на полупроводникови кварцови компоненти, VeTek Semiconductor предлага:

• Носачи за кварцови пластини с висока чистота, проектирани за термична, вакуумна и мокра среда

• Стриктен контрол на чистотата, плоскост на повърхността и чистота, подходящи за усъвършенствано производство на полупроводници

• Пълно персонализиране и OEM-съвместими дизайни за инструменти за пещ, камера и технологична станция

• Допълнителни полупроводникови кварцови продукти, включително тръби за пещи, вафлени лодки, тигли и други компоненти на процеса

Нашите кварцови носители с висока чистота спомагат за поддържането на равномерен топлинен контакт, намаляват замърсяването с частици и метали и удължават живота на инструмента при продължителни условия на висока температура и корозивни процеси – поддържайки по-висок добив и по-ниски разходи за притежание в производството на полупроводници.