Силиконов пиедестал

VeTek Semiconductor silicon suceptor е продукт от чист силиций, предназначен да осигури температурна стабилност в тръбата на термичния реактор по време на обработка на силиконова пластина, като по този начин подобрява ефективността на топлоизолацията. Обработката на силициеви пластини е изключително прецизен процес и температурата играе решаваща роля, пряко засягайки дебелината и еднородността на филма на силициевите пластини.

Силиконовият пиедестал е разположен в долната част на тръбата на термичния реактор на пещта, поддържайки силиконаНосител на вафликато същевременно осигурява ефективна топлоизолация. В края на процеса той постепенно се охлажда до стайна температура заедно с носителя на силициевата пластина.

Основни функции и предимства на VeTek Semiconductor Silicon Peedests:

Осигурете стабилна поддръжка, за да се гарантира точността на процеса

Силиконовият пиедестал осигурява стабилна и силно устойчива на топлина платформа за поддръжка на силиконовата лодка в камерата за пещ с висока температура. Тази стабилност може ефективно да предотврати изместване или накланяне на силиконовата лодка по време на обработката, като по този начин се избегне влиянието на равномерността на въздушния поток или унищожаването на разпределението на температурата, като гарантира висока точност и консистенция на процеса.

Подобрете равномерността на температурата в пещта и подобрете качеството на вафлата

Чрез изолиране на силиконовата лодка от директен контакт с долната или стената на пещта, силиконовата основа може да намали загубата на топлина, причинена от проводимост, като по този начин постигне по -равномерно разпределение на температурата в епруветката за термична реакция. Тази равномерна топлинна среда е от съществено значение за постигане на равномерност на дифузия на вафли и оксиден слой, което значително подобрява общото качество на вафлата.

Оптимизирайте ефективността на топлинната изолация и намалете консумацията на енергия

Отличните свойства на топлинната изолация на силиконовия основен материал помагат за намаляване на топлинната загуба в камерата на пещта, като по този начин значително подобряват енергийната ефективност на процеса. Този ефективен механизъм за термично управление не само ускорява цикъла на отопление и охлаждане, но също така намалява потреблението на енергия и експлоатационните разходи, осигурявайки по -икономично решение за производството на полупроводници.

Спецификации на полупроводниковия силиконов пиедестал Vetek

Цехове за производство на силиконови пиедестали на VeTek Semiconductor