TaC нагревател за покритие

TaC Coating Heater е високоефективен нагревателен елемент, широко използван в процесите на производство на полупроводници. Повърхността му е покрита с материал от танталов карбид (TaC), който дава на нагревателя отлична устойчивост на висока температура, устойчивост на химическа корозия и отлична топлопроводимост.

Основните приложения на нагревателя за покритие на TAC при производството на полупроводници включват:

 ✔ По време на епитаксиалния процес на растеж на галий нитрид (GAN), нагревателят за покритие на TAC осигурява прецизно контролирана среда с висока температура, за да се гарантира, че епитаксиалният слой се отлага върху субстрата с еднаква скорост и високо качество. Стабилният му топлинен изход помага за постигане на прецизен контрол на тънки филмови материали, като по този начин се подобрява производителността на устройството.

 ✔ Освен това, в процеса на металоорганично химическо отлагане на пари (MOCVD), съчетан с устойчивостта на висока температура и топлопроводимостта на TaC покритието, TaC нагревателят за покритие обикновено се използва за нагряване на реакционния газ и чрез осигуряване на равномерно разпределение на топлината, той насърчава неговата химическа реакция върху повърхността на субстрата, като по този начин подобрява еднородността на епитаксиалния слой и образува висококачествен филм.

 ✔ Като лидер в индустрията в продуктите за нагреватели с покритие TaC, VeTek Semiconducto винаги поддържа услуги за персонализиране на продукти и задоволителни цени на продуктите. Без значение какви са вашите специфични изисквания, ние ще намерим най-доброто решение за вашите нужди от нагревател за TaC покритие и очакваме вашата консултация по всяко време.