Ald Superior

Като професионалистAld SuperiorПроизводител в Китай, нашият продуктAld SuperiorПрецизният контрол на температурата, равномерното разпределение на газа и отличната топлопроводимост и други характеристики на продукта определят товаAld Superiorиграе решаваща роля в процеса на отлагане на атомния слой (ALD). Важна роля, добре дошли вашата консултация.

Еднообразно отлагане на тънък филм: ALD SOSCEPTOR гарантира равномерно отлагане на атомни слоеве върху цялата повърхност на вафли по време на процеса на отлагане на атомния слой (ALD). Уникалният му въртящ се дизайн позволява на газове и реагенти да се свързват равномерно с повърхността на вафли, което води до еднаква дебелина на филма. Това е от решаващо значение за производството на полупроводници с висока точност.

Подобряване на качеството на отлагането: Чрез оптимизиране на контрола на температурата и разпределението на газа, SOSPECTOR на ALD значително подобрява качеството и производителността на филма, като намалява дефектите и неедността. Това го прави идеален за производство на полупроводници с висока точност и електронни устройства, като гарантира надеждността и производителността на продукта.

Поддържа обработка на много вафли: Някои дизайни на SOSCEPTOR ALD позволяват да се обработват множество вафли едновременно, повишавайки ефективността на производството. Това е особено важно за производствената среда с висока пропускателна способност, способно да отговори на нуждите на мащабното производство.

Побира различни размери и видове вафли: SOSPECTORS ALD обикновено са предназначени за висока съвместимост и могат да поддържат различни размери и видове вафли. Това го прави ефективен при различни производствени процеси, осигурявайки по -голяма гъвкавост и адаптивност.

Намалете производствените разходи: Поради ефективното си разпределение на газа и равномерните отоплителни възможности, SOSCEPTOR на ALD повишава ефективността на процеса на отлагане, като по този начин намалява разходите за отпадъци и производството. Това не само помага за подобряване на ефективността на производството, но и значително намалява производствените разходи.

Основни физически свойства на CVD SIC покритие:

Производствени магазини:

Преглед на индустриалната верига на епитаксията на полупроводниковите чипове：