VETEK празнува церемонията по откриването на нова база за производство на полупроводници

Разширяване на възможностите за разширени SiC, TaC и PyC покрития за следващото поколение полупроводникова индустрия

През 2025 г. VETEK официално отпразнува церемонията по откриването на новата си база за производство на полупроводници, отбелязвайки важен крайъгълен камък в стратегията за разширяване на компанията за модерни полупроводникови материали и технологии за покритие.

Представители на правителството, стратегически партньори, строителни екипи и служители на VETEK се събраха, за да станат свидетели на този важен момент и да отпразнуват бързия напредък на новото съоръжение.

С изливането на последната част от бетона церемонията достигна своята кулминация сред аплодисменти и празнични салюти – символизиращи не само завършването на строителната фаза, но и началото на нова глава за бъдещото развитие на VETEK.

Ускоряване на капацитета за производство на полупроводникови материали

Новата производствена база е ключов стратегически проект за VETEK в отговор на бързо нарастващото глобално търсене на полупроводникови технологични материали и решения за високотемпературно покритие.

Съоръжението значително ще подобри производствените и инженерните възможности на VETEK в:

• CVD покритие от силициев карбид (SiC).

• CVD покритие от танталов карбид (TaC).

• Пиролитично въглеродно (PyC) покритие

• Твърд силициев карбид (Solid SiC)

• Графитни компоненти с висока чистота

• Полупроводникови термични полеви материали

• Прецизно обработени полупроводникови части

След като заработи напълно, новата база допълнително ще укрепи интегрираните производствени възможности на VETEK, обхващайки:

• Пречистване на графит

• Прецизна CNC обработка

• Усъвършенствано CVD покритие

• Полупроводниково почистване

• Проверка на качеството и тестване за надеждност

• Проектиране и оптимизиране на термично поле

Поддръжка на ключови полупроводникови процеси

Продуктите на VETEK се използват широко в критични производствени процеси на полупроводници, включително:

• SiC епитаксия

• Силициева епитаксия

• MOCVD процеси

• Системи за растеж на кристали

• RTP и приложения за гравиране

• Дифузионни и окислителни процеси

Компанията предоставя персонализирани полупроводникови компоненти, съвместими с основните индустриални платформи, включително:

• Aixtron

• Veeco

• AMEC

• LPE

• ASM

• Приложни материали (AMAT)

• Newflare

С бързия растеж на трето поколение полупроводници, EV захранващи устройства, AI инфраструктура и усъвършенствани енергийни приложения, търсенето на материали за покритие с висока чистота и компоненти за термично поле продължава да нараства в световен мащаб.

Фокусирайте се върху модерните технологии за нанасяне на покрития

VETEK продължава да инвестира сериозно в технологии за покритие от следващо поколение, предназначени за екстремни среди за производство на полупроводници.

CVD SiC покритие

Графитните продукти с CVD SiC покритие на VETEK предлагат:

• Отлична термична стабилност

• Превъзходна химическа устойчивост

• Ниско замърсяване с частици

• Висока чистота

• Дълъг експлоатационен живот при тежки условия на процеса

Тези продукти се използват широко за:

• Сцептори за епитаксия

• Вафлени носители

• Цевни фиксатори

• Части от полумесец

• Процесни компоненти за SiC/GaN епитаксия

TaC покритие за приложения при ултрависоки температури

Като една от ключовите насоки за развитие на компанията, технологията за покритие TaC на VETEK е проектирана за среди с ултрависока температура на кристален растеж над 2000°C.

В сравнение с конвенционалните SiC покрития, TaC покритията осигуряват:

• По-висока термична стабилност

• По-добри антикорозионни характеристики

• Превъзходна устойчивост на замърсяване с графит

• Подобрена стабилност на средата за растеж на кристали

Продуктите с покритие TaC са все по-важни в:

• SiC монокристален растеж

• PVT системи

• Усъвършенствани полупроводникови термични полета

Пиролитично въглеродно (PyC) покритие

VETEK също така предлага PyC покрития с висока плътност, включващи:

• Плътни повърхности без пори

• Отлична устойчивост на термичен удар

• Висока съвместимост с вакуум

• Изключително висока чистота

PyC покритията се използват широко в:

• Термична обработка на полупроводници

• Пещи за растеж на кристали

• Високотемпературни вакуумни системи

Изграждане на бъдещето на полупроводниковите материали

По време на церемонията строителният екип на проекта подчерта своя ангажимент за поддържане на най-високите инженерни стандарти и стандарти за качество, за да гарантира безпроблемното доставяне на съоръжението.

Новата производствена база представлява „VETEK Speed“ в напредналата индустриализация на полупроводникови материали – демонстрирайки решимостта на компанията да ускори технологичните иновации и глобалните възможности за доставки.

Гледайки напред, VETEK ще продължи да се фокусира върху:

• Усъвършенствани технологии за нанасяне на полупроводникови покрития

• Иновации в материалите с висока чистота

• Термична техника

• Локализация на полупроводници и надеждност на веригата за доставки

Компанията остава ангажирана с подкрепата за развитието на глобалната полупроводникова индустрия чрез непрекъснати технологични иновации и висококачествено производство.

Нов крайъгълен камък, ново пътуване

Церемонията по откриването бележи нова отправна точка за VETEK.

Носейки визията да се превърне във водещ доставчик на модерни полупроводникови материали, новата производствена база допълнително ще укрепи бъдещия растеж на VETEK и ще укрепи позицията му на световния пазар на полупроводникови материали.

Тъй като полупроводниковата индустрия продължава да се развива към по-високи температури, по-големи размери на пластини и по-строги изисквания за чистота, VETEK е готов да продължи напред заедно с клиенти по целия свят към следващото поколение производство на полупроводници.