QR код
Продукти
Свържете се с нас


факс
+86-579-87223657

електронна поща

Адрес
Wangda Road, Ziyang Street, Wuyi County, Jinhua City, Zhejiang Province, Китай
|
Индустрия |
Производство на полупроводници (епитаксия/ецване качество на компоненти с гореща зона) |
|
Процес |
GaN MOCVD,SiC епитаксия, входящо приемане и приемане на инструмента на свързани части с гореща зона |
|
Решение |
Количествено измерима приемлива рамка за еднородност на дебелината, частици, чистота и състояние на повърхността |
|
Услуги |
GDMS/ICP-OES отчети, данни за дебелината и еднородността, проверка на пробите, поддръжка за анализ на неизправности |
|
Резултати |
• Типична цел за равномерност на дебелината: в рамките на ±5% • Еталон за контрол на частиците: ≤0,1/cm² ред (в зависимост от процеса) • Чистотата на покритието може да бъде под 5 ppm; някои партиди достигат 99,99995% • Входящи показатели и отчети, които могат да бъдат проверени при доставка |
След като материалът е избран, това, което често определя ефективността на инструмента, са количествено измерими показатели като еднородност на дебелината, ниво на частици и чистота. Тази статия организира ключовите измерения на качеството на CVD SiC покритието при приемане и използване, като помага за преминаване от „спецификацията съвпада“ към „докладът може да бъде проверен и рискът може да бъде предвиден“.
Основно заключение:Неравномерната дебелина на покритието променя локалното термично съпротивление и състоянието на повърхността, което от своя страна влияе на равномерността на температурата и разпределението на дебелината на епитаксиалния филм. Типична инженерна цел е да се контролира равномерността на дебелината в рамките на ±5%, като точките на измерване се поставят в критичните зони на частта - не само като се гледа средната стойност.
За части с горещи зони, като фиксатори и пръстени за предварително нагряване, покритието е едновременно химическа бариера и част от топлинния път. При една и съща номинална дебелина, големите отклонения между ръба и центъра или между жлебовете и плоските зони могат да увеличат вариациите в еднородността на ръба на прозореца на процеса.
• Номинална дебелина и диапазон на допустими отклонения (съвпадащи с процеса и структурата на частта)
• Многоточкова еднородност (препоръчва се покриване на централни, ръбови и структурни преходни зони)
• Дали разликите между критични и некритични лица са в приемлив диапазон
Основно заключение:Контролът на частиците не може да спре до „ниски частици“. Трябва да се приземи върху чистотата на повърхността, плътността и риска от разпрашаване при употреба. Инженерната практика често използва частици на единица площ, грапавост на повърхността и целостта на покритието като елементи за проверка при постъпване и преди използване на инструмента. Целевото ниво на частици може да се отнася до порядъка ≤0,1/cm² и да бъде затегнато или отпуснато за всеки производствен процес.
Епитаксията и ецването са чувствителни към частици. Ако покритието е поресто, микронапукано или локално твърде дебело/тънко, е по-вероятно то да се превърне в източник на частици след известна употреба. Изясняването на състоянието на повърхността при входящо приемане е по-ефективно от приписването на вина след появата на проблеми.
• Външен вид: равномерен цвят, без видими ями, мехури или разслояване
• Дали грапавостта на повърхността (Ra) е в договорения диапазон
• Дали са предоставени декларации за частици или чистота (по взаимно договорени методи за изпитване)
Основно заключение:Препоръчва се GDMS/ICP-OES доклади за чистота, данни за дебелина и еднородност, външен вид и критични размери да се третират като стандартен входящ пакет. Чистотата на покритието може да бъде под 5 ppm; някои партиди достигат 99,99995%. Докладите трябва да се съпоставят с конкретни партиди и части за проследимост.
Списъкът за приемане на изпълним файл е по-полезен от словесното „отговаря на спецификацията“. Следните артикули могат да бъдат съобразени с изискванията на завода и записани в документи за покупка и IQC.
|
Проверете елемента |
Описание |
|
Картографиране на партиди и отчети |
Номерът на отчета съвпада с физическата партида; проследими |
|
Чистота (GDMS/ICP-OES) |
Критични примеси в договорени граници; чистотата на покритието може да бъде под 5 ppm |
|
Дебелина и равномерност |
Спазена номинална дебелина; типична цел за еднородност в рамките на ±5% |
|
Външен вид и повърхност |
Равномерен цвят, без видими дефекти; Ra в договорения диапазон |
|
Критични размери |
Съпоставете чертежа или OEM резервните толеранси, за да гарантирате, че инструментът пасва |
Преди използване на инструмента все още се препоръчва проверка на пробата за еднородност на температурата и ефективност на частиците. Докладът за преминаване не гарантира оптимална производителност в прозореца на процеса, но може значително да намали шанса за освобождаване на дефектна партида към инструмента.
Основно заключение:Напишете еднородност на дебелината, частици/повърхност и чистота в изпълними клаузи за приемане и изисквайте отчети за картографиране едно към едно с партиди. Когато възникнат аномалии, първо сравнете други инструменти на същата партида и промените в процеса, след което решете дали да надстроите материалното решение.
Препоръчителна последователност:
1. В спецификацията за закупуване дефинирайте допустимото отклонение на дебелината, целта за еднородност, метода и границите на чистотата и изискванията за външен вид.
2. При постъпване проверете отчета спрямо физическа партида; примерни критични размери и външен вид.
3. След нова партида или промяна на процес, пуснете малка партида върху инструмента, за да проверите частиците и еднородността.
4. Когато животът или частиците са необичайни, проучете паралелно данните за покритието и условията на пещта/процеса; избягвайте приписването на една причина.
Основно заключение:Отчитането само на средната дебелина не е достатъчно. Локалното изтъняване или удебеляване по ръба и структурните преходни зони директно повишава риска от частици и термично поле. Приемането трябва да посочва многоточкова еднородност и места за измерване - не само дали средната стойност на диска попада в рамките на номиналния толеранс.
Инженерна бележка:
След аSiC епитаксиялиния въведе нова спецификацияCVD SiC покритиеприемник, IQC провери доклада на доставчика: номиналната дебелина и средната дебелина на диска бяха в рамките на договорения толеранс, GDMS чистотата премина и външният вид не показа очевидна аномалия, така че партидата беше пусната на инструмента. След около двадесет серии, някои тарелки многократно показват издигащи се частици и локално изтъняване на филма в съответния регион на ръба на пластината, докато други тарелки от същата партида работят нормално. Отначало имаше съмнения за разпределение на технологичния газ, но когато същата камера беше превключена обратно към тарелките със стари спецификации, проблемът с ръба явно отшумя, сочейки към самата нова партида. Многоточковото измерване на дебелината на повредени части спрямо нормални части от същата партида след това показа: средната стойност на диска наистина беше в спецификациите, но точките в близост до външния пръстен бяха систематично около 8%–12% тънки, вече над целта за вътрешна равномерност на завода от ±5%; тънките зони силно припокриваха зоните с високо съдържание на частици. Основната причина се проследи до степента на отлагане в жлебовете и външния пръстен, който не е напълно калибриран за тази структура; в изходящия доклад е предоставена само средната стойност, без договореното многоточково разпределение. След това редът записа многоточкова еднородност „център + ръб + преход на жлеб“ в задължителни входящи проверки и задължителни отчети, които да включват карта на точките на измерване. След като доставчикът коригира прозореца на процеса на външния пръстен на следващите партиди, ръбовите частици и вариацията на дебелината на филма се върнаха към исторически нива. Този случай показва: средно по спецификация не означава еднаквост по спецификация. За термично чувствителни приемници, приемането без многоточкова дебелина и данни за местоположение може да позволи локални дефекти върху линията. Писането на оформление на точките на измерване и цел за еднородност като ±5% в спецификацията е по-ефективно от спора след това дали „докладът е приемлив“.
1. Задължителен стандарт ли е ±5% еднаквост на дебелината?
Това е обща инженерна цел, а не уникален правен стандарт. По-строг или малко по-широк обхват може да бъде договорен с доставчика въз основа на структурата на частта и чувствителността на процеса. Това, което има значение, е покритието на точките на измерване и проследимостта на отчетите.
2. ≤0,1/cm² важи ли за всички процеси?
Това е референтен порядък. Окончателните критерии трябва да следват изискванията за камера, процес и добив на завода, като методът на изпитване и правилата за преценка са записани в спецификацията.
3. Достатъчен ли е само доклад за чистота?
Не. Като минимум, чистота, дебелина/еднородност и външен вид (плюс съгласувани повърхностни показатели) трябва да са налични заедно; съответствието на размерите също влияе върху използването на инструмента.
4. Какво ще стане, ако отчетът мине, но частиците върху инструмента са все още високи?
Първо сравнете други инструменти от същата партида, скорошни промени в процеса/поддръжката и състоянието на почистване, след което преценете дали разтворът за покритие или прозорецът на процеса се нуждае от настройка. Ако е необходимо, направете кръстосана проверка със страниците на клъстера за решение за избор и съвместимост на оборудването.
5. Каква свързана с качеството поддръжка може да предостави VeTek?
Могат да бъдат предоставени GDMS/ICP-OES и подобни отчети за анализ, данни за дебелината и еднородността, проверка на пробите и техническа комуникация за аномалии (включително на английски).
След като бъде избран правилният материал, еднородността на дебелината, контролът на частиците и чистотата решават дали дадена партида може да влезе стабилно в прозореца на процеса. Записването на тези три в клаузи за приемане, които могат да се проверяват, и настояването отчетите да се съпоставят с партиди е най-прекият начин за намаляване на риска при използване на инструмента.
Ако имате нужда от показатели за приемане за конкретна част или помощ при тълкуване на отчети, можете да се свържете с техническия екип на VeTek. Д-р Xiao и инженерният екип могат да помогнат с привеждането в съответствие на спецификацията, проверката на пробите и анализа на аномалиите.
За логиката на избора вижте:ВЕТЕК | Как да изберете SiC покритие, TaC покритие или твърд SiC според условията на процеса; за пълната рамка вижте страницата на стълбаГраници на ефективността на CVD SiC, TaC и твърд SiC в процеси на епитаксия и ецване.
Основни препратки и източници на данни
1. VeTek Semiconductor вътрешно инженерство и практика за приемане от клиенти.
2. Метрични описания за чистота, еднородност на дебелината и контрол на частиците в Инженерния наръчник за избор на консумативи за CVD покритие за оборудване за полупроводникова епитаксия и ецване.
3. Официален уебсайт на VeTek за продукти и технически материали: https://www.veteksemicon.com/silicon-carbide-coating
Забележка: Цифрите за еднородност, частици и чистота в текста са типични инженерни справки; действителните стойности следват спецификациите на договора и измерените резултати.
Автор: Технически инженерен екип на VeTek Semiconductor (завършен под ръководството на д-р Xiao)
За допълнителна техническа дискусия или примерна оценка, моля, свържете се с нас чрез официалния уебсайт.
+86-579-87223657
Wangda Road, Ziyang Street, Wuyi County, Jinhua City, Zhejiang Province, Китай
Авторско право © 2024 WuYi TianYao New Material Tech.Co., Ltd. Всички права запазени.
Links | Sitemap | RSS | XML | Политика за поверителност |