Продукти

Като Производител и фабрика за уплътнителна част за уплътняване на SIC в Китай. Vetek Semiconducto SIC уплътняваща част е високоефективен уплътнителен компонент, широко използван при обработката на полупроводници и други екстремни процеси на висока температура и високо налягане. Добре дошли вашата допълнителна консултация.

Vetek Semiconductor е професионален производител и фабрика за вакуум на Alumina Ceramic Vacuum в Китай. Алуминиев керамичен вакуум патрон използва керамика с алуминиев оксид с висока чистота с отлична топлинна устойчивост, химическа устойчивост и механична якост. Използва се главно за фиксиране и поддържане на вафли и субстрати. Това е високоефективно оборудване за обработка на полупроводници. Добре дошли вашите допълнителни запитвания.

Като професионален производител на продукти и доставчик на продукти с твърд състав на въглеродни влакна в Китай, Vetek Semiconductor Hard Composite Carbon Fiber Felt е висококачествен материал, предназначен за високотемпературни приложения, осигурявайки отлична топлинна устойчивост и изолация. Този продукт се използва широко в палета на Carbon Carbon Composite PECVD, за да се осигури стабилност и надеждност при екстремни условия. Добре дошли вашата допълнителна консултация.

Като професионален новатор и лидер на пръстеновидните продукти с карбид Tantalum в Китай, пръстенът с покритие от полупроводник на Vetek Tantalum играе незаменима роля в растежа на кристалите на SIC с отличната си висока температурна устойчивост, устойчивост на износване и отлична термична проводимост. Добре дошли вашата допълнителна консултация.

Като водещ производител и доставчик на продукти от силициев карбид в Китай в Китай, вафлата за силициев карбид на Vetek играе незаменяема роля в процеса на растеж на епитаксиалния растеж с отличната си висока температурна устойчивост, химическа корозионна устойчивост и термична устойчивост на шок. Добре дошли вашата допълнителна консултация.

Душната глава на силициевия карбид има отличен толеранс на висока температура, химическа стабилност, термична проводимост и добро разпределение на газа, което може да постигне равномерно разпределение на газа и да подобри качеството на филма. Следователно, той обикновено се използва при високотемпературни процеси, като химическо отлагане на пари (CVD) или физическо отлагане на пари (PVD). Добре дошли вашата допълнителна консултация до нас, полупроводник Vetek.