Тръба за кварцова пещ за дифузионна пещ

1. Основни характеристики и предимства

• Дехидроксилиран стопен кварц със свръхвисока чистота (SiO₂ ≥ 99,999%) с метални примеси, контролирани на нива на ppb и изключително ниско съдържание на хидроксил

• Дълготрайна работна температура до 1100 °C; краткотрайна пикова устойчивост до 1200 °C

• Отлична устойчивост на термичен удар след пълно отгряване за освобождаване на напрежението—устойчив на напукване при бързи температурни промени

• Изключителна химическа инертност срещу окислителни, редуциращи и халоген-съдържащи технологични газове; подходящ за плазмени и корозивни атмосфери

• Много ниско вакуумно отделяне на газове; гладката вътрешна стена минимизира натрупването на странични продукти и поддържа повторяемостта на процеса

• Формоване от една част с еднаква дебелина на стената, висока коаксиалност и прецизно завършени краища за надеждно запечатване

• Персонализиращи се структури: прави тръби, редукторни тръби, фланцови тръби, удължени дължини и специални крайни конфигурации за вертикални или хоризонтални пещи

2. Типични приложения

Тръбите на кварцовата пещ VeTek се използват широко като основна реакционна камера в:

• Пещи за термично окисление (сухо/мокро окисление)

• Дифузионни пещи за въвеждане на добавки (B, P, As и др.)

• LPCVD системи за тънкослойно отлагане

• Вакуумно отгряване и други процеси на високотемпературна термична обработка

• Съвместим с 4-инчови, 6-инчови, 8-инчови и 12-инчови пластинкови платформи (Si, SiC, GaN, сапфирени субстрати)

Те поддържат производствени линии за логика, памет, захранващо устройство, MCU, LED, MEMS и широколентови полупроводникови линии, които изискват стабилна еднородност на температурата, контрол на газовия поток и ултра-чиста среда на процеса.

3. Основни технически параметри

• Материал: дехидроксилиран стопен кварц от полупроводников клас (SiO₂ ≥ 99,999%), ниско съдържание на хидроксил, ниско съдържание на метални примеси

• Съвместимост с вафли: 4 / 6 / 8 / 12 инча

• Дълготрайна работна температура: −20 °C до 1100 °C; краткотраен пик до 1200 °C

• Процес: Термично формоване на едно парче, хомогенизиране на стени, крайно покритие, отгряване за освобождаване на напрежението, тест за теч на хелий, ултра-чисто почистване

• Налични структури: Права тръба, редукторна тръба, фланцова тръба, удължена тръба / тръба с персонализирана дължина, конфигурации със специален край

• Персонализиране: Вътрешен/външен диаметър, дължина, дебелина на стената, спецификации на фланеца и специални геометрии по чертежи на клиента

4. Защо да изберете кварцови пещни тръби VeTek?

Като професионален производител на полупроводникови кварцови компоненти, VeTek Semiconductor предлага:

• Тръби за кварцова пещ с висока чистота, проектирани за оборудване за окисление, дифузия, LPCVD и отгряване

• Стриктен контрол на чистотата, точност на размерите и чистота, подходящи за клас 10 / клас 100 производство в чисти помещения

• Пълна персонализация и OEM-съвместими дизайни за вертикални и хоризонтални тръбни пещи

• Допълнителни полупроводникови кварцови продукти, включително вафлени лодки, тигели, облицовки и други компоненти на процеса

Нашите кварцови пещни тръби спомагат за поддържането на стабилни условия на топлинен и газов поток, минимизират замърсяването с частици и метали и удължават експлоатационния живот при непрекъснато високотемпературно циклиране – поддържайки по-висок добив и по-ниски разходи за притежание при термична обработка на полупроводници.