Твърдо SIC офорт фокусиращ пръстен

Vetek Semiconductor постигна голям напредък в CVD Solid SIC технологията и вече е в състояние да произвежда солиден SIC офорт фокусиращ пръстен с водещо световно ниво. Фосилният пръстен за фокусиране на Vetek Semiconductor е ултра-висок продукт от силиконов карбид на чистота, създаден чрез процеса на отлагане на химически пари.

В процесите на производство на полупроводникови производствени процеси се използва твърд SIC ецване, особено в плазмените системи за офорт. Пръстенът на SIC Focus е решаващ компонент, който помага за постигане на прецизно и контролирано офорт на силициев карбид (SIC) вафли.

По време на процеса на плазмено ецване фокусиращият пръстен играе няколко роли, както следва:

● Фокусиране на плазмата: Твърдият SIC офорт фокусиращ пръстен помага за оформяне и концентриране на плазмата около вафлата, като се гарантира, че процесът на офорт протича равномерно и ефективно. Той помага за ограничаване на плазмата до желаната зона, като предотвратява бездомното ецване или повреда на околните региони.

●  Защита на стените на камерата: Фокусиращият пръстен действа като бариера между плазмата и стените на камерата, предотвратявайки директния контакт и потенциалните щети. SIC е силно устойчив на плазмена ерозия и осигурява отлична защита на стените на камерата.

●  Tконтрол на температурата: По време на процеса на офорт по време на процеса на офорт по време на процеса на офорт. Той помага за разсейване на топлината и предотвратява локализираното прегряване или термичните градиенти, които биха могли да повлияят на резултатите от офорта.

Твърдият SiC е избран за фокусиращи пръстени поради неговата изключителна термична и химическа стабилност, висока механична якост и устойчивост на плазмена ерозия. Тези свойства правят SiC подходящ материал за суровите и взискателни условия в системите за плазмено ецване.

Струва си да се отбележи, че дизайнът и спецификациите на фокусиращите пръстени могат да варират в зависимост от специфичната плазмена система за офорт и изискванията на процеса. Vetek Semiconductor оптимизира формата, размерите и повърхностните характеристики на фокусиращите пръстени, за да осигури оптимална работа на офорт и дълголетие. Solid SIC се използва широко за носители на вафли, поредици, манекен вафла, водещи пръстени, части за ецване на процеса, процес на CVD и т.н.