SIC душ глава

Vetek Semiconductor осигурява усъвършенствана глава на душ на SIC към полупроводниковата индустрия. Материалите от силициев карбид имат уникална комбинация от отлични топлинни, електрически и химични свойства, което ги прави идеални за приложения в полупроводниковата индустрия, където са необходими високоефективни материали. Vetek Semiconductor отдавна е натрупал опит в CVD Solid SIC технологията. Революционната технология на Vetek Semiconductor позволява производството на SIC душ глава, ултра-висок материал от силициев карбид, създаден чрез процеса на отлагане на химически пари.

Душната глава на SIC е решаващ компонент в производството на полупроводници, специално проектиран за MOCVD системи, силиконова епитаксия иSicЕпитаксични процеси. Направен от здравитвърд силициев карбид (sic), Този компонент може да издържи екстремните условия на плазмена обработка и приложения с висока температура.

Силициев карбид (sic)е известен със своята висока топлопроводимост, химическа устойчивост на корозия и изключителна механична якост, което я прави идеален материал за насипни компоненти на SIC като душ глава SIC. Главата на газовия душ осигурява равномерно разпределение на процесорните газове върху повърхността на вафлите, което е от съществено значение за производството на висококачествени епитаксиални слоеве. Фокус пръстени и ръбови пръстени, често направени от CVD-SIC, поддържат равномерно разпределение на плазмата и предпазват камерата от замърсяване, повишавайки ефективността и добива на епитаксиален растеж.

Със своя прецизен контрол на газовия поток и изключителни свойства на материала, душът на SIC е ключов компонент в съвременната обработка на полупроводници, като подкрепя разширените приложения в силициевата епитаксия и SIC епитаксията.

Vetek Semiconductor предлага ниско съпротивление, синтерован от силиконов карбид полупроводник. Имаме възможност за персонализиран инженер и доставканапреднали керамични материалиИзползване на разнообразие от уникални възможности.