CVD Сусцептор с покритие от танталов карбид (TaC).

Ключови характеристики

Приложения

Типичните приложения включват:

• SiC епитаксиален растеж

• GaN MOCVD епитаксия

• AlN епитаксиален растеж

• Производство на полупроводници от трето поколение

• Мощна електроника

• RF устройства

• Производство на MicroLED

• Системи за изследване и пилотно производство

Съвместимо оборудване

Съвместимите платформи включват:

• Aixtron

• LPE

• Veeco

• AMEC

• NuFlare

• Персонализирани CVD и MOCVD реактори

Предлага се още:

• Вафлени носители

• Планетарни суцептори

• Барелни фиксатори

• Ротационни дискове

• Части от полумесец

• Покривни плочи

• Графитни възли

• Персонализирани компоненти на термичното поле

Технически спецификации

Често задавани въпроси

1. Какво представлява CVD TaC Coated Susceptor?

Графитен компонент с висока чистота, защитен от плътно CVD TaC покритие, използвано като носител на пластина по време на епитаксиален растеж.

2. Защо да използвате TaC coating вместо SiC покритие?

TaC предлага по-висока температурна устойчивост, превъзходна химическа стабилност и по-дълъг експлоатационен живот.

3.Кои полупроводникови процеси използват TaC-cовесени цептори?

SiC епитаксия, GaN MOCVD, AlN епитаксия и други процеси на растеж на кристали при висока температура.

4. Може ли VETEK да произвежда персонализирани фиксатори?

да Ние предлагаме персонализирани проекти въз основа на чертежи на клиента и изисквания на процеса.

5. Кои марки реактори се поддържат?

Aixtron, LPE, Veeco, AMEC, NuFlare и други основни системи.