Halfmoon за LPE реакционна камера

Какво е полумесец в реакционна камера на LPE?

В много LPE хоризонтални реактори, Halfmoon е част от вътрешната камера. Различните производители на оборудване може да използват малко по-различни структури, но функцията като цяло е сходна. Компонентът обикновено е разделен на горна и долна секции:

• Горен полумесец:Горната част работи главно като поддържаща конструкция вътре в реактора. Тъй като остава близо до зоната на високотемпературен процес за дълги периоди, материалът трябва да остане стабилен без видима деформация след многократни термични цикли. Друг важен момент е химическата стабилност. По време на SiC епитаксия средата на камерата съдържа реактивни газове, така че повърхността на графита трябва да бъде правилно защитена.
• Долен полумесец:Долната секция е свързана близо до областта на кварцовата тръба и въртящия се модул. Той участва във въвеждането на газ и механичната поддръжка по време на епитаксиален растеж. В сравнение с обикновените графитни структурни части, долният Halfmoon обикновено е изправен пред по-високи изисквания за устойчивост на окисление и устойчивост на термичен шок поради непрекъснатото нагряване и охлаждане по време на работа на реактора.

Основни характеристики на VETEK Halfmoon за LPE реакционна камера

1. Графитен субстрат с висока чистота

Основният материал е графит с висока чистота, подходящ за среди с полупроводникови процеси. Чистотата на материала е важна при епитаксията на SiC, тъй като замърсяването с метал може да повлияе на стабилността на растежа на кристалите и качеството на филма. VETEK използва пречистени графитни материали с контролирани нива на примеси за това приложение.

2. Усъвършенствано CVD SiC & TaC покритие

Повечето компоненти на Halfmoon са покрити с CVD SiC за подобряване на защитата на повърхността при условия на високотемпературен процес. За по-взискателни среди се предлага и TaC покритие. Типичните предимства на структурите с покритие включват:

• по-добра устойчивост на корозивни технологични газове
• по-ниско генериране на частици
• подобрена издръжливост на повърхността
• по-добра стабилност по време на топлинен цикъл

При практическа употреба изборът на покритие обикновено зависи от температурата на реактора, химията на процеса и очаквания експлоатационен живот.

3. Отлична термична стабилност

Проектиран за високотемпературни среди за обработка на полупроводници, VETEK Halfmoon поддържа стабилност на размерите и структурна цялост по време на продължителни епитаксиални цикли, което го прави много подходящ за LPE и MOCVD оборудване.

4. Прецизна CNC обработка

VETEK притежава усъвършенствани възможности за прецизна обработка с ЦПУ с контрол на размерите на микронно ниво, осигурявайки отлична съвместимост със сложни LPE реакторни структури и персонализирани изисквания към оборудването.

5. Дълъг експлоатационен живот

Чрез оптимизирана технология за адхезия на покритието и обработка на материала с висока чистота, компонентите на VETEK Halfmoon демонстрират отлична издръжливост при многократни термични цикли и корозивни технологични газове, намалявайки честотата на поддръжка и общите оперативни разходи.

Технически предимства

Приложения

Реакционната камера VETEK Halfmoon за LPE се използва широко в:

• Системи за епитаксия от силициев карбид (SiC).
• LPE хоризонтални реактори
• Оборудване за епитаксиален растеж на полупроводници
• Високотемпературни камери за CVD процеси
• Усъвършенствани полупроводникови системи с термично поле
• Системи за растеж на кристали SiC
• Производство на полупроводници от трето поколение

Нашите продукти са съвместими с множество платформи за основно оборудване в индустрията и могат да бъдат персонализирани според чертежите на клиента или спецификациите на реактора.

Защо да изберете VETEK Semiconductor?

VETEK Semiconductor се фокусира върху полупроводникови графитни компоненти и технологии за покритие от много години. От 2016 г. компанията продължава да развива възможностите си в пречистваща обработка, прецизна графитна обработка и производство на CVD покрития за полупроводникови приложения.

Възможности на VETEK:

• Опит с компоненти за епитаксия на SiC и части за реактори
• Вътрешно производство на CVD SiC и TaC покрития
• Контрол на пречистването на материала на ниво полупроводник
• Изработка по поръчка по чертеж или мостра
• Стабилен производствен капацитет за партидни поръчки
• Доставка на графитен филц и термични полеви материали
• Система за управление на качеството ISO9001
• Техническа поддръжка за чуждестранни клиенти

ЧЗВ

(1) Каква е функцията на Halfmoon в LPE реактор?

Компонентът Halfmoon поддържа насочване на газовия поток, интегриране на структурата на камерата, управление на температурата и въртене на токоприемника вътре в епитаксиалната реакционна камера.

(2) Полумесецът в пряк контакт ли е с вафлата?

Обикновено не. В повечето структури на LPE реактора Halfmoon остава около модула на камерата, вместо да докосва пластината директно.

(3) Защо да използвате SiC или TaC покритие на повърхността?

Покритието е основно за защита. По време на SiC епитаксия, графитните части са изложени на висока температура и реактивни газове за дълги периоди. Покритието спомага за подобряване на устойчивостта на окисление и намалява повърхностното износване и генерирането на частици.

(4) Може ли частта да бъде персонализирана?

да Повечето части на Halfmoon всъщност са направени според структурата на реактора и чертежите на клиента, тъй като размерите и детайлите на монтажа често варират между платформите на оборудването.