Графитен носител за пластини с TaC покритие

Можете да бъдете сигурни, че ще закупите персонализиран графитен носител с TaC покритие от VeTek Semiconductor. Очакваме с нетърпение да си сътрудничим с вас, ако искате да научите повече, можете да се консултирате с нас сега, ние ще ви отговорим навреме!

Vetek полупроводниково покритие с графитни вафли с покритие директно взаимодейства с вафли в реактора на епитаксия, повишавайки ефективността и производителността. С опцията за силициев карбид или покритие от карбид Tantalum, Vetek Semiconductor Tac покритие с графитен вафли предлага удължен живот, до 2-3 пъти по-дълъг с карбид Tantalum. Съвместим с различни машинни модели, включително LPE SIC Epitaxy Purnaces, JSG, Naso Epitaxial Pernaces.

VeTek Semiconductor TaC-покрит графитен носител осигурява прецизна стехиометрия на реакцията, предотвратява миграцията на примеси и поддържа температурна стабилност над 2000°C. Проявява забележителна устойчивост на H2, NH3, SiH4 и Si, предпазвайки от сурови химически среди. Издържащ на термични удари, той позволява бързи работни цикли без разслояване на покритието.

Покритието VeTek Semiconductor TaC гарантира ултра-висока чистота, елиминира примесите и осигурява конформно покритие, отговарящо на строги толеранси на размерите. С усъвършенстваните възможности за обработка на графит на VeTek Semiconductor ние сме оборудвани да отговорим на вашите нужди за персонализиране. Независимо дали се нуждаете от услуги за нанасяне на покритие или цялостни решения, нашият екип от експертни инженери е готов да проектира идеалното решение за вашите конкретни приложения. Доверете ни се, за да доставим висококачествени продукти, съобразени с вашите изисквания и очаквания.

PVT метод SIC Crystal Growth:

Продуктов параметър на графитния вафлен носител с TaC покритие

Цех за производство на полупроводници VeTek:

Преглед на индустриалната верига за епитаксия на полупроводникови чипове: