Ултра чист графит долен полумесец

Vetek Semiconductor е професионален производител, посветен на предоставянето на Ultra Pure Graphite долен полумесец. Нашите продукти Ultra Pure Graphite долен полумесец са специално проектирани за SIC епитаксиални камери и предлагат превъзходна производителност и съвместимост с различни модели на оборудване.

Характеристики:

Връзка: Vetek Semiconductor Ultra Pure Graphite Долен полумесец е проектиран да се свърже с кварцови тръби, улесняващ потока на газ, за ​​да задвижва въртенето на носещата основа.

Контрол на температурата: Продуктът позволява контрол на температурата, осигурявайки оптимални условия в рамките на реакционната камера.

Неконтактен дизайн: Инсталиран вътре в реакционната камера, нашият Ultra Pure Graphite долната половинмун не се свързва директно с вафлите, като гарантира целостта на процеса.

Сценарий на кандидатстване:

Нашият Ultra Pure Graphite долната половинмун служи като критичен компонент в SIC епитаксиални камери, където помага за поддържане на съдържанието на примеси под 5 ppm. Чрез внимателно наблюдение на параметрите като дебелина и еднообразие на концентрацията на допинг, ние гарантираме най -висококачествените епитаксиални слоеве.

Съвместимост:

Ultra Pure Graphite долен полумесец на Vetek Semiconductor е съвместим с широк спектър от модели на оборудване, включително LPE, Naura, JSG, CETC, Naso Tech и т.н.

Каним ви да посетите нашата фабрика в Китай, за да разгледате нашата висококачествена Ultra Pure Graphite долен полумесец от първа ръка.

Основни физически свойства на CVD SIC покритие:

Сравнете полупроводниковия магазин за производство:

Преглед на индустриалната верига на епитаксията на полупроводниковите чипове: