MOCVD епитаксиална вафла осигурява

Epitaxial вафал на MOCVD е високоефективен епитаксиален епитаксиален вафлен вафли, предназначен за оборудване за отлагане на MOCVD (метало-органично химическо отлагане на пари). Предоставящият се е изработен от SGL графитен материал и покрит със силициев карбид покритие, което съчетава високата топлопроводимост на графита с отличната висока температура и корозионна устойчивост на SIC и е подходяща за суровата работна среда на висока температура, високо налягане и корозивен газ по време на епитаксиалния растеж на полупроводници.

Графитът на SGL има отлична топлопроводимост, което гарантира, че температурата на епитаксиалната вафла е равномерно разпределена по време на процеса на растеж и подобрява качеството на епитаксиалния слой. Покритото SIC покритие дава възможност на чувствителността да издържа на високи температури над 1600 ℃ и да се адаптира към екстремната топлинна среда в процеса на MOCVD. В допълнение, SIC покритието може ефективно да устои на реакционните газове с висока температура и химическата корозия, да удължи експлоатационния живот на светещия и да намали замърсяването.

Epitaxial вафал на Veteksemi на Veteksemi може да се използва като заместител на аксесоари на доставчици на оборудване на MOCVD като Aixtron.

● Размер: Може да се персонализира според нуждите на клиента (наличен стандартен размер).

● Капацитет на носене: Може да носи множество или дори повече от 50 епитаксиални вафли наведнъж (в зависимост от размера на складира).

● повърхностна обработка: SIC покритие, устойчивост на корозия, устойчивост на окисляване.

● полупроводникова индустрия: Използва се за растеж на епитаксиални вафли като светодиоди, лазерни диоди и силови полупроводници.

● Оптоелектронична индустрия: Поддържа епитаксиалния растеж на висококачествените оптоелектронни устройства.

● Изследвания и разработки от висок клас: Приложено към епитаксиалната подготовка на нови полупроводници и оптоелектронни материали.

В зависимост от типа на оборудването на MOCVD на клиента и нуждите на производството, Vetek Semiconductor предоставя персонализирани услуги, включително размер на складира, материал, обработка на повърхността и т.н., за да гарантира, че най -подходящото решение е предоставено на клиентите.

CVD SIC филм Кристална структура

Основни физически свойства на CVD SIC покритие

Полупроводник MOCVD епитаксиални хранителни магазини