Полупроводникова керамична дюза

Полупроводниковата керамична дюза играе важна роля вHDP-CVD процес, използвани за прецизно контрол на потока на газа и гарантиратвисококачествено отлагане на филм. Керамичният спрей с дюзи е прецизно проектиран, за да осигури постоянни и контролируеми скорости на газовия поток, минимизирайки възможната турбуленция, когато газът навлезе в реакционната камера.

Технически спецификации:

1. Състав на материала:

Vetek полупроводник керамичен пясък взривник на дюзата обикновено се изработват от полупроводникова керамика като алуминиев оксид (Al2O3),силициев карбид (SiC), или циркониев оксид (ZrO2), тези материали имат отлични свойства:

    • Висока термична стабилност (може да издържи температурите над 1000 ℃)

    • Устойчивост на корозия чрез реактивни газове, използвани вCVD процеси(като силан, амоняк)

    • устойчивост на продължително излагане на плазма.

2. Структурен дизайн:

    • Размер на отвора: отворът на полупроводниковата керамична дюза е научно проектиран, за да даде възможност за прецизен контрол на потока на газа, което от своя страна влияе върху равномерността и дебелината на филма.

    • Ъгли и геометрия: Прецизно проектирани да осигурят равномерно разпределение на газа по субстрата, минимизирайки дефектите в отложения слой.

В полупроводниковата индустрия полупроводниковата керамична взривна дюза играе ключова роля предимно в процеса на HDP-CVD. Те също така се използват за депозиране на тънки филми за производство на микроелектроника, като гарантират висококачествени повърхностни покрития, които са равномерни и без замърсители.

Vetek полупроводникови магазини за керамични дюзи: