CVD душ слушалка с покритие от силициев карбид (SiC).

Ключови характеристики

• Свръхвисока чистота – SiC покритието запечатва напълно графита, така че няма отделяне на газове или замърсяване с метал.

• Отлично разпределение на газа – всяка душ глава е машинно обработена, за да осигури постоянна скорост на газа през цялата пластина.

• Превъзходна устойчивост на корозия – CVD SiC не реагира с халогени или остатъци от процеса. Издържа много по-дълго от чистия графит или кварц.

• Изключителни топлинни характеристики – Покритието съответства точно на топлинното разширение на графита, така че няма напукване по време на бързи температурни рампи.

• Прецизно производство – Ние използваме CNC машинна обработка и вътрешно CVD покритие. Диаметрите и шаблоните на отворите се поддържат при строги допуски.

Технически спецификации

Приложения

Тези душове се използват в:

• Полупроводникови CVD системи (както производство, така и R&D)

• PECVD оборудване – нискотемпературни диелектрици

• MOCVD реактори – III-V съединения като GaN, InP

• Силициева епитаксия (Si Epi) – за захранващи устройства и CMOS

• SiC епитаксия – високоволтова силова електроника

• Фабрики за комбинирани полупроводници

• Усъвършенствано опаковане (напр. отлагане на TSV лайнер)

• Всеки тънкослоен инструмент, който се нуждае от устойчив на корозия разпределител на газ с висока чистота

Защо да изберете VETEK?

• Ние не сме търговско дружество. Всичко – от обработката на графит до крайното CVD SiC покритие – се извършва вътрешно. Това означава, че ние контролираме качеството, времето за изпълнение и разходите.

• Цялостно вътрешно производство – без изненади при аутсорсинг

• Усъвършенствана технология за покритие – плътен CVD SiC без дупки

• Инженерна поддръжка по поръчка – изпратете ни своя чертеж на душ кабина или само модела на реактора

• Надеждна верига за доставки на полупроводници – ние доставяме фабрики и производители на оригинално оборудване от години

• Не е нужно всеки път да преквалифицирате нов дизайн. Вече сме покрили душ глави за много често срещани платформи (AMAT, TEL, LAM, ASM и др.).