Покритие от танталов карбид

VeTek semiconductor е водещ производител на материали за покритие от танталов карбид за полупроводниковата индустрия. Нашите основни продуктови предложения включват части с покритие от танталов карбид CVD, части с покритие от синтерован TaC за растеж на кристали SiC или процес на епитаксия на полупроводници. Преминал ISO9001, VeTek Semiconductor има добър контрол върху качеството. VeTek Semiconductor е посветен да стане новатор в индустрията за покритие от танталов карбид чрез непрекъснати изследвания и развитие на итеративни технологии.

Основните продукти саВодещ пръстен с TaC покритие, Водещ пръстен с три венчелистчета с CVD TaC покритие, Полумесец с покритие от танталов карбид TaC, CVD TaC покритие планетарен SiC епитаксиален фиксатор, Пръстен с покритие от танталов карбид, Порест графит с покритие от танталов карбид, TaC Coating Rotation Susceptor, Пръстен от танталов карбид, Въртяща се плоча с покритие TaC, ТаС покритие за вафлен приемник, Дефлекторен пръстен с TaC покритие, CVD TaC покритие, Патронник с покритие TaCи т.н., чистотата е под 5ppm, може да отговори на изискванията на клиента.

Графитът с TaC покритие се създава чрез покриване на повърхността на графитен субстрат с висока чистота с фин слой танталов карбид чрез собствен процес на химическо отлагане на пари (CVD). Предимството е показано на снимката по-долу:

Excellent properties of TaC coating graphite

Покритието от танталов карбид (TaC) привлече вниманието поради високата си точка на топене до 3880°C, отлична механична якост, твърдост и устойчивост на термични удари, което го прави привлекателна алтернатива на процесите на комбинирана полупроводникова епитаксия с по-високи температурни изисквания, като Aixtron MOCVD система и LPE SiC епитаксиален процес. Също така има широко приложение в PVT метод SiC процес на растеж на кристали.

Ключови характеристики:

●Температурна стабилност

●Ултра висока чистота

●Устойчивост на H2, NH3, SiH4,Si

●Устойчивост на топлинен запас

●Силна адхезия към графит

●Конформно покритие на покритието

● Размер до 750 mm диаметър (единственият производител в Китай достига този размер)

Приложения:

●Вафлен носител

● Индуктивен топлинен приемник

● Резистивен нагревателен елемент

●Сателитен диск

●Душ слушалка

●Водещ пръстен

●LED Epi приемник

●Инжекционна дюза

●Маскиращ пръстен

● Топлинен щит

Покритие от танталов карбид (TaC) върху микроскопично напречно сечение:

the microscopic cross-section of Tantalum carbide (TaC) coating

Параметър на VeTek Semiconductor танталов карбид покритие:

Физични свойства на TaC покритието
Плътност	14,3 (g/cm³)
Специфична излъчвателна способност	0.3
Коефициент на термично разширение	6.3 10^-6/К
Твърдост (HK)	2000 HK
Съпротива	1×10^-5Ом*см
Термична стабилност	<2500 ℃
Размерът на графита се променя	-10~-20um
Дебелина на покритието	≥20um типична стойност (35um±10um)

TaC покритие EDX данни：

EDX data of TaC coating

Данни за кристалната структура на покритието TaC:

елемент	Атомен процент
	Пт. 1	Пт. 2	Пт. 3	Средно
C K	52.10	57.41	52.37	53.96
М	47.90	42.59	47.63	46.04

Патронник за покритие TaC Планетен диск с TaC покритие
Плоча с покритие от TaC Въртяща се плоча с покритие TaC Приемник с покритие TaC CVD TaC покритие Cover CVD TaC пръстен с покритие ТаС покритие

View as

Пореста графит с так покритие

Порестият графит с TAC покритие е усъвършенстван материал за обработка на полупроводници, осигурен от полупроводник Vetek. Порестият графит с TAC покритие комбинира предимствата на пореста графит и танталум карбид (TAC), с добра топлопроводимост и проницаемост на газа. Vetek Semiconductor се ангажира да предоставя качествени продукти на конкурентни цени.

Виж повече >> Изпратете запитване >>

Покритие за покритие на карбид tantalum

Капакът за покритие на карбид Tantalum е съставен от графит с висока чистота и TAC покритие. Vetek Semiconductor е водещ доставчик и производител на покритие за покритие Tantalum Carbide в Китай. Ние се фокусираме върху осигуряването на високо чистота, високотемпературна устойчива на карбидни продукти на Tantalum. Нашето покритие с карбидно покритие Tantalum има отлична производителност и надеждност и може ефективно да защити материалите в изключително висока температура и корозивна среда. Очакваме с нетърпение да станем ваш дългосрочен партньор в Китай. Добре дошли да се консултирате по всяко време.

Виж повече >> Изпратете запитване >>

Пръстен с дефлектор на так

Дефлекторът на Vetek Semiconductor Deflector е високо специализиран компонент, предназначен за процеси на растеж на кристали SIC. TAC покритието осигурява отлична висока температурна устойчивост и химическа инертност, за да се справи с високите температури и корозивната среда по време на процеса на растеж на кристалите. Това гарантира стабилна производителност и дълъг живот на компонента, намалявайки честотата на подмяна и престой. Ние се ангажираме да предоставяме качествени продукти на конкурентни цени и очакваме с нетърпение да бъдем ваш дългосрочен партньор в Китай.

Виж повече >> Изпратете запитване >>

Tantalum карбидно покритие с покритие за растеж на кристала

Тръбата с покритие от карбид Tantalum за растеж на кристалите се използва главно в процеса на растеж на кристалите на SIC. Полупроводниковият Vetek доставя тръба с карбидно покритие Tantalum за растеж на кристалите в продължение на много години и работи в областта на TAC покритие от много години. Нашите продукти имат висока чистота и висока температура. Очакваме с нетърпение да станем ваш дългосрочен партньор в Китай. Чувствайте се свободни да ни попитате.

Виж повече >> Изпратете запитване >>

Tac покрит пръстен за SIC епитаксиален реактор

VeTek Semiconductor е водещ производител и технологичен новатор на пръстена с покритие от TaC за SiC епитаксиален реактор в Китай, като се фокусира върху предоставянето на високопроизводителни решения за SiC епитаксиални реактори. Имаме дългогодишен опит в технологията за покритие TaC. Пръстенът с TaC покритие има характеристиките на висока чистота, висока стабилност, отлична устойчивост на корозия и т.н. и може да осигури дълготрайна стабилна работа в тежката работна среда на епитаксиалните реактори. Очакваме с нетърпение да установим дългосрочно стратегическо партньорство с вас.

Виж повече >> Изпратете запитване >>

Полумесец с покритие от танталов карбид за LPE

VeTek Semiconductor е водещ доставчик на полулунна част с покритие от танталов карбид за LPE в Китай, като се фокусира върху технологията за покритие TaC в продължение на много години. Нашата част Halfmoon с покритие от танталов карбид за LPE е проектирана за процес на епитаксия в течна фаза и може да издържи на висока температура от над 2000 градуса по Целзий. С отлична производителност на материала и иновация на процесите животът на нашия продукт е на водещо ниво в индустрията. VeTek Semiconductor очаква с нетърпение да бъде ваш дългосрочен партньор в Китай.

Виж повече >> Изпратете запитване >>

Като професионалист Покритие от танталов карбид производител и доставчик в Китай, ние имаме собствена фабрика. Независимо дали се нуждаете от персонализирани услуги, за да отговорите на специфичните нужди на вашия регион или искате да закупите модерни и издръжливи Покритие от танталов карбид, направени в Китай, можете да ни оставите съобщение.

QR код

За нас

Продукти

Свържете се с нас

Телефон
+86-18069220752
факс
+86-579-87223657
Електронна поща
anny@veteksemi.com
Адрес
Wangda Road, улица Зиян, окръг Вуи, град Джинхуа, провинция Жеджианг, Китай

Уеб меню

Търсене на продукти

език

Изход от менюто

Покритие от танталов карбид

Ключови характеристики:

Приложения:

Покритие от танталов карбид (TaC) върху микроскопично напречно сечение:

Параметър на VeTek Semiconductor танталов карбид покритие:

TaC покритие EDX данни：

Данни за кристалната структура на покритието TaC:

Пореста графит с так покритие

Покритие за покритие на карбид tantalum

Пръстен с дефлектор на так

Tantalum карбидно покритие с покритие за растеж на кристала

Tac покрит пръстен за SIC епитаксиален реактор

Полумесец с покритие от танталов карбид за LPE

Изпратете запитване

QR код

За нас

Продукти

Свържете се с нас

Телефон

факс

Електронна поща

Адрес