Уеб меню

Търсене на продукти

език

Продукти

Покритие от танталов карбид

VeTek semiconductor е водещ производител на материали за покритие от танталов карбид за полупроводниковата индустрия. Нашите основни продуктови предложения включват части с покритие от танталов карбид CVD, части с покритие от синтерован TaC за растеж на кристали SiC или процес на епитаксия на полупроводници. Преминал ISO9001, VeTek Semiconductor има добър контрол върху качеството. VeTek Semiconductor е посветен да стане новатор в индустрията за покритие от танталов карбид чрез непрекъснати изследвания и развитие на итеративни технологии.


Основните продукти саВодещ пръстен с TaC покритие, Водещ пръстен с три венчелистчета с CVD TaC покритие, Полумесец с покритие от танталов карбид TaC, CVD TaC покритие планетарен SiC епитаксиален фиксатор, Пръстен с покритие от танталов карбид, Порест графит с покритие от танталов карбид, TaC Coating Rotation Susceptor, Пръстен от танталов карбид, Въртяща се плоча с покритие TaC, ТаС покритие за вафлен приемник, Дефлекторен пръстен с TaC покритие, CVD TaC покритие, Патронник с покритие TaCи т.н., чистотата е под 5ppm, може да отговори на изискванията на клиента.


Графитът с TaC покритие се създава чрез покриване на повърхността на графитен субстрат с висока чистота с фин слой танталов карбид чрез собствен процес на химическо отлагане на пари (CVD). Предимството е показано на снимката по-долу:


Excellent properties of TaC coating graphite


Покритието от танталов карбид (TaC) привлече вниманието поради високата си точка на топене до 3880°C, отлична механична якост, твърдост и устойчивост на термични удари, което го прави привлекателна алтернатива на процесите на комбинирана полупроводникова епитаксия с по-високи температурни изисквания, като Aixtron MOCVD система и LPE SiC епитаксиален процес. Също така има широко приложение в PVT метод SiC процес на растеж на кристали.


Ключови характеристики:

 ●Температурна стабилност

 ●Ултра висока чистота

 ●Устойчивост на H2, NH3, SiH4,Si

 ●Устойчивост на топлинен запас

 ●Силна адхезия към графит

 ●Конформно покритие на покритието

 ● Размер до 750 mm диаметър (единственият производител в Китай достига този размер)


Приложения:

 ●Вафлен носител

 ● Индуктивен топлинен приемник

 ● Резистивен нагревателен елемент

 ●Сателитен диск

 ●Душ слушалка

 ●Водещ пръстен

 ●LED Epi приемник

 ●Инжекционна дюза

 ●Маскиращ пръстен

 ● Топлинен щит


Покритие от танталов карбид (TaC) върху микроскопично напречно сечение:


the microscopic cross-section of Tantalum carbide (TaC) coating


Параметър на VeTek Semiconductor танталов карбид покритие:

Физични свойства на TaC покритието
Плътност 14,3 (g/cm³)
Специфична излъчвателна способност 0.3
Коефициент на термично разширение 6.3 10-6/К
Твърдост (HK) 2000 HK
Съпротива 1×10-5Ом*см
Термична стабилност <2500 ℃
Размерът на графита се променя -10~-20um
Дебелина на покритието ≥20um типична стойност (35um±10um)


TaC покритие EDX данни：

EDX data of TaC coating


Данни за кристалната структура на покритието TaC:

елемент Атомен процент
Пт. 1 Пт. 2 Пт. 3 Средно
C K 52.10 57.41 52.37 53.96
М 47.90 42.59 47.63 46.04


View as  
 
TAC Coating Tube

TAC Coating Tube

Тръбата с TaC покритие на VeTek Semiconductor е ключов компонент за успешното отглеждане на монокристали от силициев карбид. Със своята устойчивост на висока температура, химическа инертност и отлична производителност, това гарантира производството на висококачествени кристали с постоянни резултати. Доверете се на нашите иновативни решения, за да подобрите процеса на растеж на кристали от SiC чрез PVT метод и да постигнете отлични резултати. Добре дошли да ни изпратите запитване.
Виж повече >> Изпратете запитване >>
TAC покритие резервна част

TAC покритие резервна част

Понастоящем TAC покритието се използва главно при процеси като еднократно кристален растеж на силициев карбид (метод на PVT), епитаксиален диск (включително епитаксия на силициев карбид, LED епитаксия) и др. В комбинация с добрата дългосрочна стабилност на так-покриващата плоча, Veteksemicon Tac Coating Plate се превърна в табела за покритие на TAC. Очакваме с нетърпение да станете наш дългосрочен партньор.
Виж повече >> Изпратете запитване >>
GAN на приемника EPI

GAN на приемника EPI

GAN на SIC EPI Sustceptor играе жизненоважна роля за обработката на полупроводници чрез отличната си топлопроводимост, способността за обработка на висока температура и химическата стабилност и осигурява високата ефективност и качеството на материала на процеса на растеж на GAN Epitaxial. Vetek Semiconductor е китайски професионален производител на GAN на SIC EPI Sustceply, искрено се радваме на вашата допълнителна консултация.
Виж повече >> Изпратете запитване >>
CVD TAC покритие на покритие

CVD TAC покритие на покритие

CVD TAC покритие на покритие е проектиран главно за епитаксиалния процес на производство на полупроводници. Ултра-високата точка на топене на CVD TAC Coating Coating, отличната устойчивост на корозия и изключителната термична стабилност определят незаменимостта на този продукт в епитаксиалния процес на полупроводникови. Добре дошли по -нататъшното си запитване.
Виж повече >> Изпратете запитване >>
Графитна поддръжка с покритие

Графитна поддръжка с покритие

Graphite Susceptor с TaC покритие на VeTek Semiconductor използва метод на химическо отлагане на пари (CVD) за получаване на покритие от танталов карбид върху повърхността на графитни части. Този процес е най-зрелият и има най-добри свойства на покритие. TaC Coated Graphite Susceptor може да удължи експлоатационния живот на графитните компоненти, да попречи на миграцията на графитни примеси и да гарантира качеството на епитаксия. Очакваме вашето запитване.
Виж повече >> Изпратете запитване >>
TAC Coating Suber

TAC Coating Suber

Полупроводник на Vetek представя SOSCEPTOR TAC Coating, с изключителното си покритие на TAC, този светец предлага множество предимства, които го отделят от конвенционалните разтвори. Интергенерирането на безпроблемно в съществуващите системи, TAC покритие на обстановка от полупроводника на Vetek гарантира, че е композиция и ефективна работа. Надеждният му производителност и висококачественото TAC покритие последователно дават изключителни резултати в процесите на Epitaxy SIC.
Виж повече >> Изпратете запитване >>
Като професионалист Покритие от танталов карбид производител и доставчик в Китай, ние имаме собствена фабрика. Независимо дали се нуждаете от персонализирани услуги, за да отговорите на специфичните нужди на вашия регион или искате да закупите модерни и издръжливи Покритие от танталов карбид, направени в Китай, можете да ни оставите съобщение.
Препоръки за новини
Какво е стъпаловидно контролиран епитаксиален растеж？
Какво е стъпаловидно контролиран епитаксиален растеж？Виж повече >>
Принципи и технология на физическото покритие за отлагане на пари (1/2) - полупроводник Vetek
Принципи и технология на физическото покритие за отлагане на пари (1/2) - полупроводник VetekВиж повече >>
Защо покритието от танталов карбид (TaC) е по-добро от покритието от силициев карбид (SiC) при растежа на монокристалите на SiC? - VeTek полупроводник
Защо покритието от танталов карбид (TaC) е по-добро от покритието от силициев карбид (SiC) при растежа на монокристалите на SiC? - VeTek полупроводникВиж повече >>
Как да приготвите CVD TAC покритие? - Veteksemicon
Как да приготвите CVD TAC покритие? - VeteksemiconВиж повече >>
Проучвателно приложение на технологията за 3D печат в полупроводниковата индустрия
Проучвателно приложение на технологията за 3D печат в полупроводниковата индустрияВиж повече >>
Какво е TAC покритие? - Полупроводник Vetek
Какво е TAC покритие? - Полупроводник VetekВиж повече >>
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept